




蒸發(fā)鍍膜
一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于:
1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3、蒸發(fā)功率,速率
4. 真空度
5. 鍍膜時間,厚度大小
組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
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真空鍍膜機(jī)的詳細(xì)結(jié)構(gòu)
高真空鍍膜機(jī),鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的設(shè)備。其相關(guān)組成及各部件:機(jī)械泵、增壓泵、油擴(kuò)散泵、冷凝泵、真空測量系統(tǒng).
一、真空主體——真空腔
根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應(yīng)用的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔體由不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅實等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。
二、輔助抽氣系統(tǒng)
此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成
排氣流程為:機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài),為擴(kuò)散泵后繼抽真空提供前提,之后當(dāng)擴(kuò)散泵抽真空腔的時候,機(jī)械泵又配合油擴(kuò)散泵組成串聯(lián),以這樣的方式完成抽氣動作。
排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分,主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三大部分組成。
機(jī)械泵:也叫前級泵,機(jī)械泵是應(yīng)用廣泛的一種低真空泵,它是用油來保持密封效果并依靠機(jī)械的方法不斷的改變泵內(nèi)吸氣空腔的體積,使被抽容器內(nèi)氣體的體積不斷膨脹從而獲得真空。
機(jī)械泵有很多種,常用的有滑閥式(此主要應(yīng)用于大型設(shè)備)、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式(此目前應(yīng)用廣泛,本文主要介紹)四種類型。
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真空鍍膜設(shè)備的日常維護(hù)
真空鍍膜設(shè)備的運(yùn)行狀況直接影響生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)進(jìn)程等,為了使設(shè)備的運(yùn)行狀況良好,必須建立和完善設(shè)備的維護(hù)與維修制度、維護(hù)內(nèi)容、維修標(biāo)準(zhǔn)等。
設(shè)備的維護(hù)要有日常維護(hù)和定期維護(hù)
1,日常維護(hù)就是在當(dāng)天生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)設(shè)備有不良跡象,就馬上解決。發(fā)現(xiàn)機(jī)械泵的油少了就要添加,不要認(rèn)為這油是定期更換的,等到了時間再維護(hù),到時候可能泵的轉(zhuǎn)子就會磨損嚴(yán)重了。CT系列鍍膜機(jī)CT(Custamuedworkstation)系列鍍膜機(jī)系我司非標(biāo)定制產(chǎn)品,根據(jù)您的要求單獨設(shè)計,滿足您的特殊需要。再比如工件轉(zhuǎn)架的軸承有些卡,就要更換軸承,而等到它徹底的壞了再換,問題可就大了,可能引起轉(zhuǎn)架電機(jī)燒毀等現(xiàn)象。
2定期維護(hù),有人會問有了日常維護(hù)還有必要定期維護(hù)嗎?其實每一種設(shè)備都有自己的使用壽命,比如擴(kuò)散泵用的的硅油,使用壽命為兩年左右,我就規(guī)定1年半把它換掉,這樣作是不是浪費(fèi),我覺得不浪費(fèi),從設(shè)備服務(wù)于生產(chǎn)來說是值得的,老板不希望看到的是機(jī)器在生產(chǎn)階段出現(xiàn)問題。只要你把日常維護(hù)和定期維護(hù)做好了,在延長設(shè)備壽命的同時,生產(chǎn)過程中出現(xiàn)故障的幾率也大大降低。生產(chǎn)效率也提高了。艾明坷科技有限公司專業(yè)生產(chǎn)手套箱,如您想了解更多您可撥打圖片上的電話進(jìn)行咨詢。
3,設(shè)備保養(yǎng)和維修1重要的是講究“細(xì)心”,每一個人都力求做到“我辦事,你放心”,也就是說我做的事情不需要別人和自己再有懷疑!做好這一點可少走好多彎路,其次是要善于分析現(xiàn)象,不能盲目的拆卸。說到這里,很多人都遇到過真空方面的漏氣問題,真空部分出現(xiàn)了問題很麻煩,再加上我們公司沒有檢漏儀,這就要分階段來找。真空鍍膜機(jī)檢漏要承認(rèn)漏氣究竟的虛漏仍是實漏,因為工件資料加熱后都會在不同程度上發(fā)生氣體,有也許誤以為是從外部流進(jìn)的氣體,這即是虛漏,要掃除這種狀況。
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常見的真空鍍膜材料
氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3,氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。
其它化合物硫化鋅ZnS,硒化鋅ZnSe,氮化鈦TiN,碳化硅SiC,鈦酸鑭LaTiO3,鈦酸鋇BaTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鐠PrTiO3,硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。
金屬鍍膜材料高純鋁Al,高純銅Cu,高純鈦Ti,高純硅Si,高純金Au,高純銀Ag,高純銦In,高純鎂Mg,高純鋅Zn,高純鉑Pt,高純鍺Ge,高純鎳Ni,高純金Au,金鍺合金AuGe,金鎳合金AuNi,鎳鉻合金NiCr,鈦鋁合金TiAl,鋅鋁合金ZnAl,鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。使用磁控濺射的真空鍍膜機(jī)一般采用的是圓筒主體結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)上要保證快速抽空,因氣袋會緩慢的放氣,因此要避免出現(xiàn)隔離孔穴,真空系統(tǒng)上端會加裝磁控濺射槍,為了使真空室和元件有足夠的強(qiáng)度,保證在外部和內(nèi)部的作用力下不產(chǎn)生形狀的變化,厚度需要足夠?!?
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