




真空鍍膜機(jī)
真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,終形成薄膜。
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真空抽不上去的原因
1、漏率偏高就是我們通常所說(shuō)的漏氣;.
2、真空機(jī)組的抽氣能力不夠了,油被污染或氧化了:
3、真空室內(nèi)太臟放氣;
4、真空室內(nèi)有漏水;
5、真空管道有漏氣;.
6、或者是以上幾種可能都有。
出現(xiàn)問(wèn)題首先是要判斷,是不是拆卸過(guò)東西,是不是漏水?閥門打開了嗎?根據(jù)現(xiàn)象判斷原因,然后再去根據(jù)判斷找問(wèn)題,可能會(huì)收到事半功倍的效果。
養(yǎng)成良好的衛(wèi)生習(xí)慣
相比以前我們廠的設(shè)備是灰塵滿面、油漬不堪。也許很多人都認(rèn)為,設(shè)備只要正常運(yùn)轉(zhuǎn)就可以了,搞得再干凈也是做表面工作。我可是這樣認(rèn)為的,一個(gè)人連表面工作都作不來(lái),那真的還有內(nèi)在、實(shí)在的工作嗎?當(dāng)然設(shè)備和設(shè)備周圍的灰塵、油污對(duì)設(shè)備的本身的影響也是相當(dāng)之大的。低溫冷凝:根據(jù)各種氣體的特性,采用液氦或者制冷循環(huán)氦氣來(lái)冷卻?;覊m能產(chǎn)生靜電,損壞電子元件;油污能使電線、水管硬化開裂,造成一些意想不到的問(wèn)題出現(xiàn)。特別我們使
用的真空設(shè)備,還有它本身的特殊性。真空設(shè)備講究的是-一個(gè)真空清潔度,真空清潔度越差,放氣性就越大。這樣使設(shè)備抽到較高的真空度所需的時(shí)間就越長(zhǎng)。
或者根本就無(wú)法抽到。這樣一來(lái)就減少我們的產(chǎn)量,二來(lái)影響到了我們的產(chǎn)品的質(zhì)量。
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真空鍍膜機(jī)鍍制薄膜不均勻的解決方法
制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來(lái)控制的,每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了,壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。2、極限真空度高,可達(dá)7×10-5Pa,可保證更高的鍍膜純凈度,提高鍍膜質(zhì)量。另外抽氣的時(shí)間也要控制,太短會(huì)造成真空度不夠,但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源,不過(guò)有真空計(jì)的存在,要控制好還是不成問(wèn)題的。
真空鍍膜設(shè)備真空泵的選擇
真空泵工作時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)對(duì)工藝過(guò)程及環(huán)境有無(wú)影響。若工藝過(guò)程不允許,應(yīng)選擇無(wú)振動(dòng)的泵或者采取防振動(dòng)措施。
了解被抽氣體成分,氣體中含不含可凝蒸氣,有無(wú)顆?;覊m,有無(wú)腐蝕性等。選擇真空泵時(shí),需要知道氣體成分,針對(duì)被抽氣體選擇相應(yīng)的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體,應(yīng)該考慮在泵的進(jìn)氣口管路上安裝輔助設(shè)備,如冷凝器、除塵器等。
真空泵在其工作壓強(qiáng)下,應(yīng)能排走真空設(shè)備工藝過(guò)程中產(chǎn)生的全部氣體量。
真空設(shè)備對(duì)油污染的要求。若設(shè)備嚴(yán)格要求無(wú)油時(shí),應(yīng)該選各種無(wú)油泵,如:水環(huán)泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴(yán)格,可以選擇有油泵,加上一些防油污染措施,如加冷阱、障板、擋油阱等,也能達(dá)到清潔真空要求。
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