




溶劑凈化系統(tǒng)
名稱:溶劑凈化系統(tǒng)及其方法
技術領域:本發(fā)明涉及一種溶劑凈化系統(tǒng)和方法。例如,合成和有機金屬化學需要非常高純 度的溶劑。尤其是,合成化學需要去除氧氣和潮濕成分的溶劑。有機金屬化學甚至需要對 潮濕成分更高純度的溶劑。換句話說,在使用之前,溶劑需要被'干燥'。
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關于環(huán)保溶劑型清洗劑和環(huán)保水基型清洗劑的比較說明
眾所周知,當前工業(yè)清洗劑主要分為溶劑型和水基型兩種,那么在實際應用中它們又有哪些區(qū)別呢?
1、 環(huán)保方面:
碳氫清洗劑屬于ODS類物質(zhì),對大氣臭氧層有破壞作用,屬于環(huán)??刂莆镔|(zhì),水基溶劑是環(huán)保的、無毒的,可直接排放。
2、 設備方面:
水基型清洗后要用純水漂洗,并需烘干,用電量稍大一些,同時占地面積相對較大,設備成本也對較高。機電設備清洗劑清洗后能自然發(fā)揮,工位相對較少,耗電量約低于水基清洗設備,它的占地面積相對較小。
3、 清洗效果方面
碳氫清洗劑采用的是直接溶解所以超聲波清洗速度快,周期短,效果直接,徹底。水基清洗是采用洗劑替換的方式,并且是兩次替換(次是溶劑替換油污等雜質(zhì),第二次是純水替換溶劑),替換后還需要烘干,故相對清洗時間較長,但水基清洗后沒有殘留問題。
4、 使用成本方面
環(huán)保溶劑型清洗劑使用原液清洗, 雖然可以重復使用,但由于其高揮發(fā)性,及產(chǎn)品的粘附性,其用量十分大。水基溶劑均是兌水使用,單價雖然約高于有機1溶劑,但用量小。水基漂洗需用純水,但純水的制水成本較低。
綜上所述,兩種清洗均能達到清洗效果,水基清洗的使用成本低,安全、環(huán)保。但設備復雜,溶劑型清洗劑清洗速度快、揮發(fā)快。
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溶劑純化
市售的有機1溶劑有工業(yè)、化學純和分析純等各種規(guī)格。在有機1合成中,通常根據(jù)反應特性來選擇適宜規(guī)格的溶劑,以便使反應順利進行而又不浪費試劑。但對某些反應來說,對溶劑純度要求特別高,即使只有微量有機1雜質(zhì)和痕量水的存在,常常對反應速度和產(chǎn)率也會發(fā)生很大的影響,這就須對溶劑進行純化。其消融漆膜才能之強,水性脫漆劑速度之快,作用之高,消除涂層品種規(guī)劃較寬,適用于硝基、硝基、環(huán)氧、環(huán)氧、聚酯、聚氨酯等。 這種情況下,就需對溶劑進行純化處理,以滿足實驗的正常要求。
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