




溶劑純化系統(tǒng)
在溶劑純化系統(tǒng)的設(shè)計(jì)生產(chǎn)中溶入了多項(xiàng)先進(jìn)的和技術(shù)。 創(chuàng)新科技獨(dú)特的分配系統(tǒng)使多個(gè)用戶更方便地使用無水溶劑,我們的五通閥設(shè)計(jì)是當(dāng)今全球領(lǐng)域內(nèi)公認(rèn)的和安全的操作系統(tǒng)。Pure Solv MD分配系統(tǒng)通過使用我們的綜合分配管系統(tǒng),可以促進(jìn)真空和惰性氣體更合理地分配,更節(jié)約能源。綜上所述,兩種清洗均能達(dá)到清洗效果,水基清洗的使用成本低,安全、環(huán)保。通過雙凈化圓管設(shè)計(jì)可凈化800升溶劑提供不同的接口供用戶選擇, 如 24/40, 14/20, 29/32 不銹鋼接口. 另有其他接口如球形接頭和針型開關(guān)閥等儲(chǔ)存罐容量20升. 儲(chǔ)存罐有特別的防爆及防護(hù)設(shè)計(jì)活動(dòng)式靜電接地夾配備7微米不銹鋼微粒過濾器每種溶劑配備7psi壓力閥門調(diào)節(jié)器以防止玻璃器皿過分受壓五通閥設(shè)計(jì),美觀又容易操作
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溶劑凈化系統(tǒng)
名稱:溶劑凈化系統(tǒng)及其方法
技術(shù)領(lǐng)域:本發(fā)明涉及一種溶劑凈化系統(tǒng)和方法。例如,合成和有機(jī)金屬化學(xué)需要非常高純 度的溶劑。尤其是,合成化學(xué)需要去除氧氣和潮濕成分的溶劑。有機(jī)金屬化學(xué)甚至需要對(duì) 潮濕成分更高純度的溶劑。換句話說,在使用之前,溶劑需要被'干燥'。

溶劑凈化系統(tǒng)概述
快速溶劑純化系統(tǒng)快速溶劑純化系統(tǒng)是一套操作簡(jiǎn)便、安全可靠的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。相對(duì)于危險(xiǎn)的加熱蒸餾鈉絲除水方式,有機(jī)1溶劑純化系統(tǒng)可以在安全無憂的情況下,實(shí)時(shí)供應(yīng)高質(zhì)量無水有機(jī)1溶劑,只需投入很低的成本即可有效降 低實(shí)驗(yàn)室災(zāi)害發(fā)生的潛在風(fēng)險(xiǎn),而且相較于直接購買昂貴的市售無水溶劑,成本極低,且純度更高,也不會(huì)有保存不易的問題。不論從安全、節(jié)能及成本等不同的觀點(diǎn)來考慮,有機(jī)1溶劑純化系統(tǒng)都是現(xiàn)代實(shí)驗(yàn) 室規(guī)劃管理當(dāng)中不可或缺的一環(huán),也將是未來的發(fā)展方向。溶劑凈化系統(tǒng)這款有機(jī)1溶劑凈化系統(tǒng)專業(yè)為實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用而研發(fā)的為安全的溶劑凈化系統(tǒng),非常適合干燥溶劑或去氧化溶劑使用。
性能特點(diǎn)可根據(jù)用戶需求同時(shí)處理 1-10 種溶劑純化設(shè)計(jì),有多種安全保護(hù)措施純化效果優(yōu)異 ,可將水 氧脫除至低 ppm 級(jí)五通閥設(shè)計(jì) ,可單手操作 ,簡(jiǎn)單易懂外觀設(shè)計(jì)美觀大方純化柱采用外漏式 ,更換非常簡(jiǎn)便填料可自行再生 ,使用成本極低溶劑接口備有多種連接方式與溶劑接觸部位全部采用不銹鋼, 可靠耐用。相對(duì)于危險(xiǎn)的加熱蒸餾鈉塊除水方式,該系統(tǒng)可以在安全無憂的情況下,實(shí)時(shí)供應(yīng)高質(zhì)量無水有機(jī)1溶劑,只需投入很少的成本即可有效降低實(shí)驗(yàn)室災(zāi)害發(fā)生的潛在風(fēng)險(xiǎn)。
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溶劑凈化系統(tǒng)EX-SPS5-800技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品型號(hào):EX-SPS5-800
凈化柱數(shù)量5柱,每柱包含兩個(gè)凈化單元
溶劑流速<1000ml/min
凈化效果低1PPM,不同溶劑效果有差異
工作氣體 高純氮?dú)?
溶劑儲(chǔ)液罐 304不銹鋼材料,防腐耐壓,用于儲(chǔ)存待處理溶劑
Swagelok氣體接口和壓力表、安全閥,有止回閥
容量20L 數(shù)量5個(gè)
內(nèi)部氣體壓力:5 PSI,保護(hù)壓力15 PSI
溶劑吸附:自動(dòng)再生,可分別處理5種溶劑
凈化柱:內(nèi)裝凈化材料5.0 升,出廠前已對(duì)凈化柱進(jìn)行活化,抵達(dá)用戶現(xiàn)場(chǎng)后可直接使用
真空系統(tǒng):隔膜真空泵,有較強(qiáng)的抗化學(xué)腐蝕性能;抽氣速度2.3 立方 / 小時(shí);真空度小于8mbar;使用環(huán)境溫度10-40攝氏度。
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