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大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。特氣系統(tǒng)知識(shí)分享：標(biāo)準(zhǔn)氣體所謂標(biāo)準(zhǔn)氣體就是用來校正測(cè)量儀器、評(píng)價(jià)測(cè)定方法、給出未知樣品氣標(biāo)準(zhǔn)值的氣體。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。

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特氣系統(tǒng)知識(shí)分享：一般混合氣體

由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標(biāo)出大致濃度,即可滿足使用要求,這種氣體稱為一般混合氣體。

對(duì)氣體分析儀用氣體,如含氫10%，其余是氦的混合氣以及含甲1烷5%或10%；含氫40%，其余是氮或氦的混合氣被用作氫火焰總烴檢測(cè)儀的燃料氣。

在測(cè)定放1射性物質(zhì)時(shí),使用的混合氣有下列幾種組成:含異丁烷0.95%,或含丁烷1.3%，或含丙烷1.5%，或含甲1烷5%～10%，均以氦為底氣。

深海呼吸用含氧20%～60%,其余是氮或氦的混合氣。激光用氣含CO24%～16%,N210%～25%，其余是氦。

光化學(xué)反應(yīng)、動(dòng)植物實(shí)驗(yàn)室和金屬腐蝕等研究用的混合氣因關(guān)系到公害問題,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氫等都要保持低濃度。

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特氣系統(tǒng)知識(shí)分享：標(biāo)準(zhǔn)氣體

所謂標(biāo)準(zhǔn)氣體就是用來校正測(cè)量儀器、評(píng)價(jià)測(cè)定方法、給出未知樣品氣標(biāo)準(zhǔn)值的氣體。它分為調(diào)整零位用標(biāo)準(zhǔn)氣體(零位氣體)、監(jiān)測(cè)環(huán)境用標(biāo)準(zhǔn)氣、工業(yè)分析用標(biāo)準(zhǔn)氣體、醫(yī)1療儀器用標(biāo)準(zhǔn)氣體、可燃性氣體泄漏用標(biāo)準(zhǔn)氣體、燃燒器尾氣用標(biāo)準(zhǔn)氣體六大類。高純氣體的輸送管路系統(tǒng)隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高，對(duì)氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格，需要達(dá)到ppb、ppt級(jí)，塵埃粒徑求控制小于0。由于使用了標(biāo)準(zhǔn)氣,所以即使在不同場所測(cè)定,也具有相同測(cè)定值。

標(biāo)準(zhǔn)氣體應(yīng)用范圍很廣,在化工、石油冶金、機(jī)械、航天、電子、陶瓷、汽車、光纖、激光、潛水、環(huán)保、切割、焊接、食品加工等工業(yè)部門均使用大量的常用氣體和特種氣體。其中在石油化工領(lǐng)域?qū)?biāo)準(zhǔn)氣體的需求量相對(duì)較大。

高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高，對(duì)氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格，需要達(dá)到ppb、ppt級(jí)，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對(duì)高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。閥門是管路流體輸送系統(tǒng)中控制部件，用來改變通路斷面和介質(zhì)流動(dòng)方向，具有導(dǎo)流、截止、節(jié)流、止回、分流或溢流卸壓等功能。